Yarı iletken fabrikasyon hatlarında, epitaksi reaktörlerinde ve gaz kromatografisi enstrümantasyon şebekelerinde taşıyıcı ve temizleme gazları olarak görev yapan ultra yüksek saflıktaki azot ve helyum akışkanlarının iletiminde yaşanan en ufak nem sızıntısı, üretimi tamamen baltalamaktadır. Regülatör diyaframlarında meydana gelen milyarda bir düzeyindeki oksijen veya su buharı kontaminasyonu, ince film kaplama kalitesini bozarak mikroçip katmanlarında yapısal defektlere yol açar. Tesis müdürlerinin karşılaştığı bu saflık dalgalanması risklerini ortadan kaldırmak, downstream doğruluğunu korumak adına mutlak sızdırmazlık odaklı şebekelerin kurulması teknik bir zorunluluktur.

Mitan, mikroelektronik ve hassas analiz laboratuvarlarının bu tavizsiz saflık standartlarını güvenceye almak amacıyla ileri düzey akış mimarisine sahip yarı iletken özel gaz sistemleri geliştirmektedir. SEMI standartlarına ve ASME B31.3 High Purity normlarına tam uyumlu olarak mühendisliği gerçekleştirilen çözümlerimiz; otomatik geçişli gaz panellerini, özel süpürme vana matrislerini ve filtrasyon donanımlarını kapsar. İç yüzey pürüzlülüğü elektropolisaj yöntemiyle optimize edilmiş paslanmaz çelik enstrümantasyon elemanları kullanan altyapılarımız, fabrikasyon aşamasında helyum kütle spektrometresiyle kaçak testlerinden geçirilerek sevk edilir.